関谷毅, 高松泰司, 中野慎太郎, 桜井貴康, 染谷隆夫, "ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたペンタセン薄膜トランジスタのキャリア密度," 春季 第53回応用物理学関係連合講演会, 応用物理学会春,10.9, “特定テーマA:有機 トランジスター”, 2006年3月.
ID 649
分類 国内会議(一般講演:口頭)
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表題 (title) ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたペンタセン薄膜トランジスタのキャリア密度
表題 (英文)
著者名 (author) 関谷毅,高松泰司,中野慎太郎,桜井貴康,染谷隆夫
英文著者名 (author) 関谷毅,高松泰司,中野慎太郎,桜井貴康,染谷隆夫
キー (key) 関谷毅,高松泰司,中野慎太郎,桜井貴康,染谷隆夫
定期刊行物名 (journal) 春季 第53回応用物理学関係連合講演会, 応用物理学会春,10.9, “特定テーマA:有機 トランジスター”
定期刊行物名 (英文)
巻数 (volume)
号数 (number)
ページ範囲 (pages)
刊行月 (month) 3
出版年 (year) 2006
Impact Factor (JCR)
URL
付加情報 (note)
注釈 (annote)
内容梗概 (abstract) 武蔵工業大学(東京都世田谷区),2006年3月22日-26日.

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BiBTeXエントリ
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