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比津和樹, 王喜章, 伊庭信吾, 加藤祐作, 関谷毅, 島田よう子, 大月穣, 染谷隆夫, "ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ," 第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1, p. 1176 2005年9月. | |
ID | 644 |
分類 | 国内会議(一般講演:口頭) |
タグ | |
表題 (title) |
ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ |
表題 (英文) |
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著者名 (author) |
比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫 |
英文著者名 (author) |
比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫 |
キー (key) |
比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫 |
定期刊行物名 (journal) |
第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1 |
定期刊行物名 (英文) |
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巻数 (volume) |
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号数 (number) |
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ページ範囲 (pages) |
1176 |
刊行月 (month) |
9 |
出版年 (year) |
2005 |
Impact Factor (JCR) |
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URL |
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付加情報 (note) |
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注釈 (annote) |
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内容梗概 (abstract) |
p.1176, 徳島大学,2005年9月11日.
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論文電子ファイル | 利用できません. |
BiBTeXエントリ |
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