比津和樹, 王喜章, 伊庭信吾, 加藤祐作, 関谷毅, 島田よう子, 大月穣, 染谷隆夫, "ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ," 第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1, p. 1176 2005年9月.
ID 644
分類 国内会議(一般講演:口頭)
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表題 (title) ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ
表題 (英文)
著者名 (author) 比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫
英文著者名 (author) 比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫
キー (key) 比津和樹,王喜章,伊庭信吾,加藤祐作,関谷毅,島田よう子,大月穣,染谷隆夫
定期刊行物名 (journal) 第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1
定期刊行物名 (英文)
巻数 (volume)
号数 (number)
ページ範囲 (pages) 1176
刊行月 (month) 9
出版年 (year) 2005
Impact Factor (JCR)
URL
付加情報 (note)
注釈 (annote)
内容梗概 (abstract) p.1176, 徳島大学,2005年9月11日.

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@article{id644,
         title = {ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ},
        author = {比津和樹 and 王喜章 and 伊庭信吾 and 加藤祐作 and 関谷毅 and 島田よう子 and 大月穣 and 染谷隆夫},
       journal = {第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1},
         pages = {1176},
         month = {9},
          year = {2005},
}