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関谷毅, 伊庭, 加藤, 染谷, "ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたペンタセンFETの高温動作(~190℃)," 第65回応用物理学会学術講演会, 2p-ZR-5, p. 1168 2004年9月. | |
ID | 638 |
分類 | 国内会議(一般講演:口頭) |
タグ | |
表題 (title) |
ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたペンタセンFETの高温動作(~190℃) |
表題 (英文) |
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著者名 (author) |
関谷毅,伊庭 信吾,加藤 祐作,染谷 隆夫 |
英文著者名 (author) |
関谷毅,伊庭信吾,加藤祐作,染谷隆夫 |
キー (key) |
関谷毅,伊庭信吾,加藤祐作,染谷隆夫 |
定期刊行物名 (journal) |
第65回応用物理学会学術講演会, 2p-ZR-5 |
定期刊行物名 (英文) |
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巻数 (volume) |
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号数 (number) |
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ページ範囲 (pages) |
1168 |
刊行月 (month) |
9 |
出版年 (year) |
2004 |
Impact Factor (JCR) |
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URL |
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付加情報 (note) |
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注釈 (annote) |
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内容梗概 (abstract) |
p.1168, 東北学院大学 泉キャンパス,仙台,2004年9月.
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論文電子ファイル | 利用できません. |
BiBTeXエントリ |
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