加藤祐作, 伊庭信吾, 関谷毅, 染谷隆夫, "ポリイミドゲート絶縁膜を用いたペンタセンFETのin-situプロセスによるon/off比の改善," 第65回応用物理学会学術講演会, 2p-ZR-7, 2004年9月.
ID 637
分類 国内会議(一般講演:口頭)
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表題 (title) ポリイミドゲート絶縁膜を用いたペンタセンFETのin-situプロセスによるon/off比の改善
表題 (英文)
著者名 (author) 加藤祐作,伊庭信吾,関谷毅,染谷隆夫
英文著者名 (author) 加藤祐作,伊庭信吾,関谷毅,染谷隆夫
キー (key) 加藤祐作,伊庭信吾,関谷毅,染谷隆夫
定期刊行物名 (journal) 第65回応用物理学会学術講演会, 2p-ZR-7
定期刊行物名 (英文)
巻数 (volume)
号数 (number)
ページ範囲 (pages)
刊行月 (month) 9
出版年 (year) 2004
Impact Factor (JCR)
URL
付加情報 (note)
注釈 (annote)
内容梗概 (abstract) p.1168, 東北学院大学 泉キャンパス,仙台,2004年9月.

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