国内会議(一般講演:口頭)
[1] 比津和樹, 王喜章, 伊庭信吾, 加藤祐作, 関谷毅, 島田よう子, 大月穣, 染谷隆夫, "ポリイミドをゲート絶縁膜に用いたフッ素化NTCDIの電界効果トランジスタ," 第66回応用物理学会学術講演会,11a-R-1, page 1176 2005年9月.